По слухам из Кореи, Apple ведет испытания новой технологии антибликового оптического покрытия для будущих камер iPhone, которая может существенно улучшить качество фотографий путем уменьшения бликов и ореолов.

Согласно информации, опубликованной аккаунтом новостного агрегатора «yeux1122» на блоге Naver и ссылками на источники в цепочке поставок Apple, компания рассматривает возможность интеграции нового оборудования для атомно-слоевого осаждения (ALD) в производственный процесс объективов камер iPhone.

Технология ALD позволяет наносить материалы на поверхность по одному атомному слою за раз, обеспечивая чрезвычайную точность в контроле толщины и состава покрытия. Это может быть важным фактором для производства компонентов камер, так как ALD способен наносить очень тонкие слои материалов на оптические поверхности.

Применение технологии ALD в объективах камер может помочь уменьшить блики и ореолы на фотографиях, вызванные яркими источниками света, например, солнцем. Также она может снизить эффект двоения изображения, который иногда возникает на фотографиях в условиях яркого освещения.

Помимо этого, материалы, нанесенные с использованием технологии ALD, могут защитить объектив камеры от воздействия окружающей среды, не ухудшая качество изображения, получаемого датчиком камеры.

Предполагается, что производственный процесс с применением ALD будет использован в «Pro-модели» следующего поколения iPhone от Apple. Хотя точные детали не раскрываются, но это, вероятно, относится к моделям iPhone 16 Pro или даже к iPhone 17 Pro, предполагаемым моделям будущих линеек смартфонов Apple.

Ожидается, что обе модели iPhone 16 Pro будут оснащены объективом с тетрапризмой и 5-кратным оптическим зумом, что сделает их еще более привлекательными для пользователей, уделяющих внимание качеству фотографий.