Rapidus, японский производитель чипов, планирует развернуть 10 передовых систем литографии в условиях крайнего ультрафиолета (EUV) на своих новых производственных площадках — шаг, который, как помощник, даст японскому производству передовых чипов ведущий импульс. Генеральный директор Ацуёси Коике поделился планами смерти относительно будущих заводов IIM-1 и IIM-2, как сообщает Nikkan Kogyo Shimbun.

События набрали обороты в декабре 2024 года, когда в аэропорт Нью-Титосэ прибыла первая в Японии машина EUV-литографии. Согласно графику компании, Rapidus хочет начать 2-нм пробное производство на IIM-1 уже в конце 2025 года, а к июню отправить кристаллы кристаллов полупроводниковому гиганту Broadcom.

Рассматривая производственную мощность, можно предположить, что если пять инструментов EUV будут работать с высокой мощностью, IIM-1 сможет обработать где-то от 17 000 до 20 000 пластин в месяц — предполагаю около 20 слоев EUV в процессе производства. Rapidus будет использовать сканер Twinscan NXE:3800E от ASML, который теоретически может пропускать пластину до 220 в час при дозе 30 мДж/см².

С амбициозной целью массового производства 2-нм чипов, установленных в 2027 году, Rapidus выходит на игровое поле, укомплектованное признанными тяжеловесами. TSMC, например, планирует начать производство 2-нм чипов в 2025 году и уже стоит в очереди таких крупных клиентов, как Apple, NVIDIA, AMD и Qualcomm.

Тем временем Samsung также предпринимает шаги по переоборудованию некоторых своих 3-нм производственных линий для работы с 2-нм оборудованием, проводя испытания в партнерстве с такими компаниями, как NVIDIA и Qualcomm.